ケニス ガス温度調節装置 GTC01 研究用 培養 1個
供給ガスの温度を制御し、目的とする空間内の温度調節・維持を行います。CO25%ガスを37℃で供給できます。
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アズワン CO2トランスミッタ HDシリーズ
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クリンガー社 ガスケット HNJ100A10KU
実用温度250℃(蒸気200℃)のノンアスベストジョイントシートです。
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ガステック パーミエーションチューブ P921
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P131
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P55
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P5
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P91
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P4
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
トヨックス カムロック アダプター 雌ネジ 3 AL
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。
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トヨックス カムロック アダプター 雌ネジ 4 AL
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。
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トヨックス カムロック アダプター 雌ネジ 21/2 AL
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。
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トヨックス カムロック アダプター 雌ネジ 3 SST
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。
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トヨックス カムロック アダプター 雌ネジ 4 SST
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。+もっと見る
トヨックス カムロック アダプター 雌ネジ 21/2 SST
使用温度範囲:50から180℃(ガスケット使用温度範囲に準じる)です。
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アズワン エコノミー電気炉 ガス置換タイプ プログラム機能有 395×350×450mm ROP003PG 4215304 電気炉
扱いやすいコンパクトなパーソナルタイプの汎用電気炉です。窒素ガス等不活性ガスで置換しながらの加熱が可能です。デジタル表示で温度設定・炉内温度の確認が可能です。不活性ガス雰囲気下での加熱が可能!
扱いやすいコンパクトなパーソナルタイプの汎用電気炉です。窒素ガス等不活性ガスで置換しながらの加熱が可能です。デジタル表示で温度設定・炉内温度の確認が可能です。不活性ガス雰囲気下での加熱が可能!+もっと見る
アズワン エコノミー電気炉 ガス置換タイプ プログラム機能無 395×350×450mm ROP003G 4215303 電気炉
扱いやすいコンパクトなパーソナルタイプの汎用電気炉です。窒素ガス等不活性ガスで置換しながらの加熱が可能です。デジタル表示で温度設定・炉内温度の確認が可能です。不活性ガス雰囲気下での加熱が可能!
扱いやすいコンパクトなパーソナルタイプの汎用電気炉です。窒素ガス等不活性ガスで置換しながらの加熱が可能です。デジタル表示で温度設定・炉内温度の確認が可能です。不活性ガス雰囲気下での加熱が可能!+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P72H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P130H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P131H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P138H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P180H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P5H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P9H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P73H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P174H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P164H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ガステック パーミエーションチューブ P74H
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。
校正用ガス調整装置パーミエーターPD1B、PD1B2に使用するチューブです。一定温度に保持しつつ、希釈ガスを一定量送れば、連続して一定濃度の校正用ガスが得られます。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K100A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K100A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K15A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
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ニチアス ガスケット 9007LC10K15A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K20A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
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ニチアス ガスケット 9007LC10K20A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K25A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K25A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K32A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K32A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K40A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
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ニチアス ガスケット 9007LC10K40A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K50A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K50A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K65A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K65A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K80A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC10K80A3TRF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る
ニチアス ガスケット 9007LC5K100A3TFF
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。
フッ素樹脂PTFEにシリカ充填材として使用しており、PTFE主体でもクリープ(変形)が小さく広い温度領域に使用できるガスケットです。+もっと見る